渦輪分子泵應用于 OLED 鍍膜機
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渦輪分子泵應用于  OLED 鍍膜機

渦輪分子泵應用于  OLED 鍍膜
上海伯東某專業從事 OLED 設備制造商, 經過伯東推薦該設備真空系統配置 Pfeiffer 分子泵  HiPace 700 , 雙級旋片泵 DUO 35 和美國 HVA 插板閥, 成功替換此設備原先使用的日本低溫泵. 此款 OLED 設備適用于有機半導體照明客戶.

OLED 設備基本技術要求如下:
1.  腔體體積: 約 150 L 左右
2.  極限真空度: 1 x 10-7 mbar
3.  30 分鐘 – 1 小時內達到 5 x 10-5 mbar
4.  Gas: Ar, O2
OLED 鍍膜機,渦輪分子泵
真空系統配置

渦輪分子泵

渦輪分子泵 HiPace 700
進氣口: DN 160 CF-F
氮氣抽速: 685 l/s
氮氣壓縮比: > 1X1011
極限真空: 5X10-10 mbar
半導體 Semi S2 及 IP 54 防護等級

雙級旋片泵 DUO 35

雙級旋片泵 DUO 35
進氣口: DN 40 ISO-KF
氮氣抽速: 32 m3/h
極限真空: 3 X 10-3

全量程真空計 PKR 251

全量程真空計 PKR 251
進氣口:KF 25
測量范圍: 5E-9至 1000
精度: ±30%

HVA 氣動插板閥

HVA 氣動插板閥
進氣口: DN 160 CF-F
極限真空: 1x10-10 mbar
供電: 24V DC

此類  OLED 鍍膜機, 用加熱使材料蒸發的方法, 在襯底上沉積各種化合物, 混合物單層或多層膜. 主要用于有機半導體材料的物理化學性能研究實驗, 上海伯東 Pfeiffer HiPace 系列分子泵搭配 DuoLine 雙級旋片泵是其理想的選擇! 

鑒于客戶信息保密, 若您需要進一步的了解渦輪分子泵, 請參考以下聯絡方式
上海伯東: 葉小姐                                  臺灣伯東: 王小姐
T: +86-21-5046-3511 ext 109             T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                          F: +886-3-567-0049
M: +86 1391-883-7267                       M: +886-939-653-958
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